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深圳市第8.5代TFT-LCD（含氧化物半導體及AMOLED）生產建設項目T2研發樓項目

      深圳市第8.5代TFT-LCD（含氧化物半導體及AMOLED）生產建設項目T2研發樓位于公明大道和科裕路的交匯處。項目包含一棟研發辦公樓和兩個門衛室，研發樓的建筑面積為50102.30㎡，建筑基地面積為7253.00㎡，建筑高度為33.75m。一號門衛室的建筑面積為317.39㎡，建筑基地面積344.84平方米。五號門衛建筑面積25.27㎡，基地面積為25.27㎡。